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2 | CVD - Picosun - Atomic Layer Deposition (ALD) - Al2O3 | |||||||||||
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4 | Process Specification | Process Performance | ||||||||||
5 | Tool Name: | Picosun | ||||||||||
6 | Description: | This monitor tracks the ALD thickness, dep rate/cycle, and the uniformity of the deposition. | ||||||||||
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8 | Recipe: | Al2O3 (standard recipe) | ||||||||||
9 | Layer Material: | Al2O3 | ||||||||||
10 | Cycles: | 500 :NOTE: prior to 20190926 the #cycles was 400 | ||||||||||
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13 | Targeted Results: | |||||||||||
14 | Target | Description | ||||||||||
15 | Thickness [A]: | 500 :NOTE: prior to 20190926 the #cycles was 400 | 5 point avg using Ellips | |||||||||
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17 | Non-Uniformity [%]: | <5 | Calculated using (MAX-MIN) / (MAX+MIN) method on thickness data. | |||||||||
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19 | Index of Refraction | 1.5-1.6 | measured using 5pt ellips average | |||||||||
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23 | Process Conditions: | |||||||||||
24 | ALD Deposition: | |||||||||||
25 | TMA +H20: | Open | ||||||||||
26 | Chamber Temp: | 300C | ||||||||||
27 | Cycles: | 500 :NOTE: prior to 20190926 the #cycles was 400 | ||||||||||
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30 | QM Process Procedure: | |||||||||||
31 | Step | Tool | Description | |||||||||
32 | Stock Wafer | - | Bare Si P-type Test wafer | |||||||||
33 | CVD | Picosun | Standard Al2O3 recipe | |||||||||
34 | Follow manual step by step everytime! | |||||||||||
35 | FT1 | Ellips | 5 point thickness | |||||||||
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38 | Ellipsometry Thickness/Index 25 pt maps | |||||||||||
39 | 2019/03/19 | |||||||||||
40 | 2020/01/27 | |||||||||||
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43 | Ellipse 2 ALD comparison Picosun vs Cambridge | |||||||||||
44 | AL2O3 thickness | 5/1/2018 | ||||||||||
45 | TiO2 thickness | 5/1/2018 | ||||||||||
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