A | B | C | D | E | F | G | H | I | J | K | L | M | N | O | P | Q | R | S | T | U | |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
1 | ATOMIC LAYER DEPOSITION (ALD) | ||||||||||||||||||||
2 | Thermal ALD | Thermal / Plasma Enhanced ALD | |||||||||||||||||||
3 | Marvell Equipment Name | picosun | cambridge | ||||||||||||||||||
4 | Marvell Nanolab Manual Chapter | 6.24 | 6.25 | ||||||||||||||||||
5 | Marvell Nanolab Location | 586 | 586 | ||||||||||||||||||
6 | Equipment Model | Sunale R150 | Fiji F200 | ||||||||||||||||||
7 | Equipment Vendor | Picosun | Nanolab | ||||||||||||||||||
8 | Software/ OS | Proprietory and undocumented | Labview/Windows on a laptop | ||||||||||||||||||
9 | Plasma Source | no | Yes, ICP 300W | ||||||||||||||||||
10 | Substrate Heating | Yes | Yes | ||||||||||||||||||
11 | Chamber Temperature Limits | 100-350°C | MAX - 500°C Chuck, 300°C Cone and Chamber, MIN -100° | ||||||||||||||||||
12 | ALD Valves | ALD valves info TBD | MAC Series 34 direct solenoid valve | ||||||||||||||||||
13 | Valve response time | TBD | 10ms min pulse time (MAC rated response time 5ms) | ||||||||||||||||||
14 | Number of Precursors | 3 | 6 | ||||||||||||||||||
15 | Number of Heated Precursors | 1 | 5 | ||||||||||||||||||
16 | Precursor Temp limit | 200°C (regular is 80C, see staff) | 200°C (Regular is 80C, see staff if you need to increase temp) | ||||||||||||||||||
17 | Thickness Monitor | no | no | ||||||||||||||||||
18 | Pulse Counter | no | no | ||||||||||||||||||
19 | Platform | Fork transports the wafer into the chamber | Substrate holder is left in the chamber during dep | ||||||||||||||||||
20 | Wafer Capability | 6" or smaller on a 6" carrier | 8" or smaller | ||||||||||||||||||
21 | Height of sample limit | TBD | 6.35mm MAX | ||||||||||||||||||
22 | Load lock | Yes | Yes | ||||||||||||||||||
23 | Substrate transfer | Manual (LL to Fork). Computer controlled elevator | Automatic | ||||||||||||||||||
24 | Typical Process Pressure | 8-9hPa (6-7T) | 0.1-1Torr | ||||||||||||||||||
25 | Typical Process Pressure | 8-9hPa (6-7T) | 0.1-1Torr | ||||||||||||||||||
26 | Materials allowed ONLY after Staff review | Polymers and other low temp melting pt. | Polymers and other low temp melting pt. substrates | ||||||||||||||||||
27 | Power Supply | TBD | 4.5kW per reactor | ||||||||||||||||||
28 | Vacuum Gauge | MKS Barratron 722A | Edwards APGX-H dual Pirani and convection gauge | ||||||||||||||||||
29 | Pump | Edwards IQDP80 | AM Dry Pump | ||||||||||||||||||
30 | Gases | ||||||||||||||||||||
31 | Ar | No | Yes: 2 lines :Carrier and Plasma 200/1000 sccm | ||||||||||||||||||
32 | N2 | Yes (4MFCs) | Yes for Plasma 200sccm | ||||||||||||||||||
33 | O2 | No | Yes for Plasma 200sccm | ||||||||||||||||||
34 | H2 | No | Yes for Plasma 200sccm | ||||||||||||||||||
35 | Supported Processes | ||||||||||||||||||||
36 | AL2O3 | Yes | Yes | ||||||||||||||||||
37 | TiO2 | Yes | Yes | ||||||||||||||||||
38 | TiN | No | Yes | ||||||||||||||||||
39 | Ru/RuO2 | No | Yes | ||||||||||||||||||
40 | SiO2 | No | Yes (Plasma only) | ||||||||||||||||||
41 | ZrO2 | No | Yes | ||||||||||||||||||
42 | ZnO | No | Yes | ||||||||||||||||||
43 | HfO2 | No | Yes | ||||||||||||||||||
44 | Co3O4 | No | Yes | ||||||||||||||||||
45 | SnOx | No | Process to be developed. Ask if interested. | ||||||||||||||||||
46 | Pt | No | Process to be developed. Ask if interested. | ||||||||||||||||||
47 | |||||||||||||||||||||
48 | |||||||||||||||||||||
49 | |||||||||||||||||||||
50 | |||||||||||||||||||||
51 | |||||||||||||||||||||
52 | |||||||||||||||||||||
53 | |||||||||||||||||||||
54 | |||||||||||||||||||||
55 | |||||||||||||||||||||
56 | |||||||||||||||||||||
57 | |||||||||||||||||||||
58 | |||||||||||||||||||||
59 | |||||||||||||||||||||
60 | |||||||||||||||||||||
61 | |||||||||||||||||||||
62 | |||||||||||||||||||||
63 | |||||||||||||||||||||
64 | |||||||||||||||||||||
65 | |||||||||||||||||||||
66 | |||||||||||||||||||||
67 | |||||||||||||||||||||
68 | |||||||||||||||||||||
69 | |||||||||||||||||||||
70 | |||||||||||||||||||||
71 | |||||||||||||||||||||
72 | |||||||||||||||||||||
73 | |||||||||||||||||||||
74 | |||||||||||||||||||||
75 | |||||||||||||||||||||
76 | |||||||||||||||||||||
77 | |||||||||||||||||||||
78 | |||||||||||||||||||||
79 | |||||||||||||||||||||
80 | |||||||||||||||||||||
81 | |||||||||||||||||||||
82 | |||||||||||||||||||||
83 | |||||||||||||||||||||
84 | |||||||||||||||||||||
85 | |||||||||||||||||||||
86 | |||||||||||||||||||||
87 | |||||||||||||||||||||
88 | |||||||||||||||||||||
89 | |||||||||||||||||||||
90 | |||||||||||||||||||||
91 | |||||||||||||||||||||
92 | |||||||||||||||||||||
93 | |||||||||||||||||||||
94 | |||||||||||||||||||||
95 | |||||||||||||||||||||
96 | |||||||||||||||||||||
97 | |||||||||||||||||||||
98 | |||||||||||||||||||||
99 | |||||||||||||||||||||
100 |