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1 | Film | Recipe | Subs.T | Thickness (Woollam) | Thickness (Wafer Mapping) | Dep.time | JAW EC-400 (Woolam Spec. Ell.) | Dep.rate | Stress | BHF etch rate wafer | LPD (Gain4) particle size (0.16-1.6)um | Haze, for Gain4 | LPD (Gain2) particle size (2.8-28.0)um | Photos | Photos | Comments/Brian Lingg PM | |||||||||
2 | Production category | wafer center | 25 points (avg.) | Maintenance | |||||||||||||||||||||
3 | SiO2 | SiO2 Deposition | 250° C | (nm) | (nm) | sec | Index @ 632.8nm | Index @ 1550nm | ( nm/min) | (MPa) | ( nm/min) | Before Deposition | After Deposition | % | Before Deposition | After Deposition | Surfscan | Optical microscope | Deposition done on 4"Si wafer | ||||||
4 | Index | Dep.rate | Stress | Replaced the Silane and Ammonia MFCs-Avg-2017 | |||||||||||||||||||||
5 | 12-02-19 | SiO2 | SiO2 Deposition | 250 | 320.17 | 324.15 | 425.0 | 1.466 | 1.463 | 45.20 | -464.87 | 561.85 | 95 | 211 | 116 | 35 | 24 | 63 | good | done, OK | No showerhead pattern | ||||
6 | 01-09-20 | SiO2 | SiO2 Deposition | 250 | 316.44 | 314.24 | 425.0 | 1.462 | 1.451 | 44.67 | -457.00 | 462.18 | 108 | 435 | 327 | 42 | 32 | 141 | good | done, OK | No showerhead pattern, some big particles | ||||
7 | 02-18-20 | SiO2 | SiO2 Deposition | 250 | 317.34 | 316.08 | 425.0 | 1.474 | 1.464 | 44.80 | -487.38 | 559.78 | 106 | 643 | 537 | 100 | 11 | 100 | good | done, OK | Some showerhead pattern, some particles | ||||
8 | 05-27-20 | SiO2 | SiO2 Deposition | 250 | 333.67 | 340.32 | 425.0 | 1.469 | 1.456 | 47.11 | -476.69 | 528.14 | 35 | 2992 | 2957 | 67 | 13 | 875 | good | done, OK | Has some pattern toward center, OK | ||||
9 | 07-20-20 | SiO2 | SiO2 Deposition | 250 | 330.13 | 338.69 | 425.0 | 1.469 | 1.458 | 46.61 | -439.52 | 512.60 | 79 | 382 | 303 | 59 | 37 | 105 | good | done, OK | good | ||||
10 | 08-26-20 | SiO2 | SiO2 Deposition | 250 | 322.11 | 330.04 | 425.0 | 1.469 | 1.458 | 45.47 | -435.71 | 530.72 | 96 | 258 | 162 | 80 | 74 | 43 | good | done, OK | good | ||||
11 | 10-05-20 | SiO2 | SiO2 Deposition | 250 | 315.65 | 319.28 | 425.0 | 1.466 | 1.455 | 44.56 | -434.11 | 499.90 | 101 | 297 | 196 | 55 | 70 | 130 | good | done, OK | good | ||||
12 | 10-14-20 | SiO2 | SiO2 Deposition | 250 | 287.84 | 296.00 | 374.7 | 1.459 | 1.448 | 46.09 | -366.78 | 508.16 | 150 | 274 | 124 | 100 | 75 | 81 | good | done, OK | good, some random particles | ||||
13 | 12-11-20 | SiO2 | SiO2 Deposition | 250 | 331.30 | 330.54 | 425.0 | 1.463 | 1.448 | 46.77 | -391.45 | 559.44 | 84 | 507 | 423 | 52 | 34 | 53 | good | done, OK | good, some showerhead pattern | ||||
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18 | Avg.Thickness | 319.41 | Avg Index | 1.466 | 1.456 | ||||||||||||||||||||
19 | Index+1% | 1.481 | 1.470 | ||||||||||||||||||||||
20 | Index-1% | 1.452 | 1.441 | ||||||||||||||||||||||
21 | Avg Dep.Rate | 45.70 | |||||||||||||||||||||||
22 | Avg +10% | 50.27 | |||||||||||||||||||||||
23 | Avg - 10% | 41.13 | |||||||||||||||||||||||
24 | Avg. Stress | -439.28 | |||||||||||||||||||||||
25 | Avg +30% | -571.06 | |||||||||||||||||||||||
26 | Avg - 30% | -307.50 | |||||||||||||||||||||||
27 | Avg. HF e.r. | 524.75 | |||||||||||||||||||||||
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