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1 | User | Film | Recipe | Substrate T | Thickness | Dep.time | JAW EC-400 (Woolam Spec. Ell.) | Dep.rate | Stress | BHF etch rate wafer | LPD ( light point defects) | AVG dep.rate | AVG+10% | AVG-10% | Avg index | AVG+1% | AVG -1% | AVG.Stress | Avg+30% | Avg-30% | Comments/Brian Lingg PM | |||||||
2 | Maintenance | |||||||||||||||||||||||||||
3 | 1/1/2012 | User | SiO2 | SiO2_10 | 250° C | (Å) | sec | Index @ 632.8nm | Index @ 1550nm | ( nm/min) | (MPa) | ( nm/min) | before dep. | after dep. | Index @ 632.8nm | Deposition done on 4"Si wafer | ||||||||||||
4 | Index | Dep.rate | Stress | Avg.dep.rate | Avg+10% | Avg-10% | Avg.Index | Avg+1% | Avg-1% | Avg.Stress | Avg+30% | Avg-30% | ||||||||||||||||
5 | 01-06-16 | Biljana | SiO2 | SiO2_10 | 250 | 1055.95 | 176.6 | 1.465 | 1.454 | 35.88 | -680.02 | 549.48 | 61 | 426 | 40.69 | 44.76 | 36.63 | 1.461 | 1.476 | 1.446 | -423.01 | -549.92 | -296.11 | |||||
6 | 02-05-16 | Biljana | SiO2 | SiO2_10 | 250 | 1156.47 | 176.6 | 1.458 | 1.447 | 39.29 | -278.46 | 572.15 | 419 | 606 | 40.69 | 44.76 | 36.63 | 1.461 | 1.476 | 1.446 | -423.01 | -549.92 | -296.11 | |||||
7 | 03-11-16 | Biljana | SiO2 | SiO2_10 | 250 | 1254.85 | 167.8 | 1.462 | 1.451 | 44.87 | -364.62 | 523.35 | 40.69 | 44.76 | 36.63 | 1.461 | 1.476 | 1.446 | -423.01 | -549.92 | -296.11 | |||||||
8 | 03-18-16 | Biljana | SiO2 | SiO2_10 | 250 | 1278.18 | 167.8 | 1.462 | 1.452 | 45.70 | -437.09 | 587.30 | 40.69 | 44.76 | 36.63 | 1.461 | 1.476 | 1.446 | -423.01 | -549.92 | -296.11 | |||||||
9 | 03-24-16 | Biljana | SiO2 | SiO2_10 | 250 | 1258.29 | 167.8 | 1.459 | 1.448 | 44.99 | -357.36 | 575.85 | 40.69 | 44.76 | 36.63 | 1.461 | 1.476 | 1.446 | -423.01 | -549.92 | -296.11 | |||||||
10 | 04-11-16 | Biljana | SiO2 | SiO2_10 | 250 | 1159.16 | 167.8 | 1.457 | 1.447 | 41.45 | -413.18 | 467.14 | 21 | 1125 | 40.69 | 44.76 | 36.63 | 1.461 | 1.476 | 1.446 | -423.01 | -549.92 | -296.11 | |||||
11 | 04-26-16 | Biljana | SiO2 | SiO2_10 | 250 | 1103.77 | 167.8 | 1.458 | 1.447 | 39.47 | -379.42 | 456.44 | 40.69 | 44.76 | 36.63 | 1.461 | 1.476 | 1.446 | -423.01 | -549.92 | -296.11 | |||||||
12 | 05-19-16 | Biljana | SiO2 | SiO2_10 | 250 | 1091.95 | 167.8 | 1.456 | 1.445 | 39.04 | -376.71 | 453.76 | 40.69 | 44.76 | 36.63 | 1.461 | 1.476 | 1.446 | -423.01 | -549.92 | -296.11 | |||||||
13 | 06-24-16 | Biljana | SiO2 | SiO2_10 | 250 | 1114.66 | 167.8 | 1.476 | 1.462 | 39.86 | -453.35 | 571.92 | 40.69 | 44.76 | 36.63 | 1.461 | 1.476 | 1.446 | -423.01 | -549.92 | -296.11 | |||||||
14 | 08-26-16 | Biljana | SiO2 | SiO2_10 | 250 | 1111.81 | 167.8 | 1.456 | 1.446 | 39.75 | -344.67 | 554.52 | 36 | 120 | 40.69 | 44.76 | 36.63 | 1.461 | 1.476 | 1.446 | -423.01 | -549.92 | -296.11 | |||||
15 | 11-18-16 | Biljana | SiO2 | SiO2_10 | 250 | 1218.80 | 167.8 | 1.462 | 1.451 | 43.58 | -535.99 | 539.78 | 22 | 90 | 40.69 | 44.76 | 36.63 | 1.461 | 1.476 | 1.446 | -423.01 | -549.92 | -296.11 | Showerhead replaced sometime in November (after this deposition) | ||||
16 | 12-14-16 | Biljana | SiO2 | SiO2_10 | 250 | 963.42 | 167.8 | 1.461 | 1.450 | 34.45 | -455.28 | 512.16 | 97 | 242 | 40.69 | 44.76 | 36.63 | 1.461 | 1.476 | 1.446 | -423.01 | -549.92 | -296.11 | Dep. rate dropped!. Film darker in the center. No showerhead pattern. | ||||
17 | Avg.Thickness | 1147.28 | Avg Index | 1.461 | 1.450 | |||||||||||||||||||||||
18 | Index+1% | 1.476 | 1.464 | |||||||||||||||||||||||||
19 | Index-1% | 1.446 | 1.435 | |||||||||||||||||||||||||
20 | Avg Dep.Rate | 40.69 | ||||||||||||||||||||||||||
21 | Avg +10% | 44.76 | ||||||||||||||||||||||||||
22 | Avg - 10% | 36.63 | ||||||||||||||||||||||||||
23 | Avg. Stress | -423.01 | ||||||||||||||||||||||||||
24 | Avg +30% | -549.92 | ||||||||||||||||||||||||||
25 | Avg - 30% | -296.11 | ||||||||||||||||||||||||||
26 | Avg. HF e.r. | 530.32 | ||||||||||||||||||||||||||
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